Aufbauten
Die Aufbauvarianten von SBU-Multilayern sind extrem vielfältig. Gemeinsames technologisches Merkmal ist, dass mindestens 2 Presschritte benötigt werden. In komplexeren Aufbauten können auch deutlich mehr Pressschritte erforderlich sein.
Bei den sog. Sub-Kern-Aufbauten werden vor der finalen Verpressung Sub-Kern(e) verpresst und wie eigene, separate Multilayer inkl. Bohrungen, Metallisierungen etc. vorverarbeitet. Bei den Anylayer-Aufbauten werden, von einem Sub-Kern ausgehend, sequentiell immer neue Außenlagen auf den bestehenden Verbund aufgebracht und mit Microvias an die alten Außenlagen angebunden. Der Multilayer wächst sozusagen aus der Mitte heraus. Auch Kombinationen aus beiden Ansätzen sind üblich.
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Beschreibung
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Standard
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Sonder
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A
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Leiterbahnbreite
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≥125µm
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≥50µm
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B
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Leiterbahnabstand
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≥125µm
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≥50µm
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Beschreibung
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Standard
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Sonder
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C
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Bohrdurchmesser
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≥75µm
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≥40µm
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D
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Bohrtiefe (AR>1:1)
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≤100µm
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>100µm
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E
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Restring Startpad umlaufend
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≥100µm
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≥50µm
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F
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Restring Landepad umlaufend
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≥100µm
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≥50µm
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Verfüllung
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Plugging Paste
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Cu-Filling
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Cu-Deckel
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Nach Kundenwunsch
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Nach Kundenwunsch
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Beschreibung
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Standard
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Sonder
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G
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Bohrdurchmesser
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≥0,20mm
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≥0,10mm
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H
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Bohrtiefe
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AR>1:8
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AR>1:10
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I
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Restring Start- & Landepad umlaufend
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≥100µm
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≥50µm
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J
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Restring Innenlagen umlaufen
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≥125µm
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≥100µm
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K
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Freistellungen Innenlagen umlaufend
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≥250µm
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≥125µm
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Verfüllung
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Harz oder Plugging-Paste
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Cu-Filling
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Cu-Deckel
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Nach Kundenwunsch
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Nach Kundenwunsch
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Beschreibung
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Standard
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Sonder
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|---|
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L
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Bohrdurchmesser
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≥0,20mm
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≥0,10mm
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M
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Bohrtiefe
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AR>1:8
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AR>1:10
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N
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Restring außen umlaufend
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≥100µm
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≥50µm
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O
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Restring Innenlagen umlaufend
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≥125µm
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≥100µm
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P
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Freistellung Innenlagen umlaufend
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≥250µm
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≥125µm
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Verfüllung
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Plugging Paste
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Plugging Paste
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Cu-Deckel (Via-In-Pad)
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Nach Kundenwunsch
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Nach Kundenwunsch
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Kostenfaktoren einer HDI-SBU-Leiterplatte
Die mögliche Kostenspanne einer HDI-SBU-Leiterplatte ist extrem groß. Entscheidende technologische Einflussfaktoren sind dabei insbesondere
Anzahl der Pressungen
Anzahl der Bohrprogramme und Anzahl der Bohrungen (Blind- und Buried Vias, Thorugh Holes)
Anzahl der Durchkontaktierungsprozesse
Umfang der erforderlichen Verfüllprozesse (Pluggen, Cu-Filling)
Strukturweiten (Line/Space)